(一)概念

集成电路布图设计权(以下简称布图设计权)是指布图设计的创作人或其他权利人对布图设计所享有的权利。布图设计权属于一类新型的知识产权，既非著作权，也非专利权，有着不同于二者的特征，但又与著作权和专利权有着密切的联系。

(二)布图设计权与著作权

二者的联系表现在:(1)二者都是知识产权，保护的客体都具有无形性，必须通过一定的载体才能体现出来。且布图设计的表现方式与作品的某些表现方式相同。(2)二者都以复制权作为主要权利内容。(3)二者都要受一定的权利限制。著作权有合理使用、法定许可、强制许可等规定，对于布图设计权也有类似的权利限制规定。

二者的区别表现在:(1)著作权包括人身权和财产权，而布图设计权的人身性极弱，仅表现为署名权而已。(2)就财产权内容而言，二者也存在区别。著作权中的财产权以复制权为主要内容，著作权法主要保护作品不被他人非法复制，并不禁止他人实施作品内容的行为。而布图设计权除了包括复制权外，还包括商业利用权。具体而言，不仅禁止他人非法复制布图设计，而且禁止他人以营利为目的非法实施布图设计。(3)二者的客体不同。布图设计权的客体是集成电路产品中的布图设计，属于技术领域中具有实用性的设计。而著作权的客体一般不具有实用性。(4)二者授予权利的条件不同。对于作品而言，只要其具备独创性条件，即可获得著作权，而不要求该项作品有任何较先前作品进步的“创造性”。而布图设计若要获得保护则必须具备一定的创造性。(5)二者在权利取得和保护方式上不同。对布图设计的保护，大多数国家实行登记保护制度。而对于著作权一般采用自动保护主义，其取得无需经登记程序。

(三)布图设计权与专利权

二者的联系表现在:(1)二者的客体都是技术领域内的成果，具有实用性，能够在工业中被利用，并都能产生积极的效果。(2)布图设计权除了可以获得专门法方式的保护外，只要其符合专利要求，还可以同时获得专利法的保护。

二者的区别表现在:(1)权利获得的条件不同。一项发明创造要取得专利权，必须具备新颖性、创造性和实用性。而布图设计无需达到如此高的要求，其只要具备独创性和非显而易见性即可。显然二者在创造性的要求上有高低之别。(2)权利性质不同。专利权是一种具有独占和排他效力的专有权利，一项发明创造只能授予一个专利权，这是法律对专利所提供的一种较强的保护。布图设计权则不然，法律虽然也基于布图设计的一定创造性而给予较之于著作权法更强的保护，但其保护水平较之专利仍要低一个层次，布图设计权人一般不能排除他人使用通过独立创作而得到的相同的布图设计。对自己独立创作的与他人相同的布图设计进行复制或者将其投入商业利用的，可以不经布图设计权利人许可，亦无需向其支付报酬。

综上所述，布图设计权是介于著作权和专利权之间的一类新型知识产权。之所以说其介于二者之间，有两个原因:首先，就权利取得的条件而言，布图设计须具备一定的创造性，这比仅需满足独创性条件的作品要严格，但其所需达到的创造性高度又比专利的要求更低。其次，就法律的保护程度而言，布图设计所获得的保护恰恰介于二者之间，一方面，布图设计权除了包括复制权外，还包括对布图设计的商业利用权，其所获得的保护程度比作品高;另一方面，布图设计权人又不能对布图设计享有像专利权那样的独占性专有权，其受保护程度又比专利低。因此，布图设计权也被称为介于著作权和专利权之间的“工业版权”。