鉴于布图设计对于微电子技术及行业的重要性，有必要为其提供充分的法律保护。理论上存在两种基本选择:一是利用现有的专利法、著作权法、反不正当竞争法等对其加以保护，一是制定专门法对其加以保护。

(一)著作权法保护模式

布图设计作为一种三维配置形态的图形设计，与著作权法保护的作品有一定的相似性，而且，布图设计保护的一个重要方面就是禁止他人未经许可而复制该布图设计，因此，著作权法的某些保护手段可以适用于布图设计的保护。但布图设计毕竟不是一般作品，用著作权法对其予以保护并不合适:

1.一般而言，著作权法保护的对象是非实用的作品，而布图设计之所以受法律的保护则是因其具有实用性。

2.依照著作权法，对于具有原创性的作品一般均予以保护。但该保护若应用于布图设计，则不利于技术进步和创新。作为一种科技成果，布图设计的价值取决于其在技术上的进步性，这也是法律对其加以保护的前提。如果对那些不具进步性的、为专业技术人员所熟知的布图设计进行保护，则有悖于布图设计保护的宗旨，无法起到鼓励创新的作用。

3.著作权法无法充分保护布图设计。著作权最主要的内容就是复制权，著作权法主要禁止他人对作品未经许可的复制，并不禁止实施作品内容的行为。然而，布图设计保护不仅在于禁止他人未经许可的复制，更在于禁止他人将该布图设计运用于生产中。换言之，布图设计权的内容除了复制权外，还包括商业利用权，而这是著作权法无法提供的。

4.在集成电路产业中，反向工程技术已为世界各国厂商普遍采用。依据著作权法，在原作基础上进行改编的权利应当属于作者，而实施反向工程的最终目的则可能是改进他人的集成电路。如果依照著作权法将这类行为视为侵权，就有碍集成电路产业的发展。

5.著作权法对著作权所设置的过长保护期不适合对布图设计的保护。集成电路及其布图设计的更新换代速度非常快，而著作权的保护期限过长，如果用著作权法来保护布图设计，则不利于集成电路产业的快速发展。

(二)专利法保护模式

含有布图设计的集成电路，若组装成能完成一定任务、具有特定功能且符合专利条件的产品的话，则有可能获得专利法的保护。但是，通过专利法保护布图设计的模式存在以下障碍:

1.专利权的授予条件过于严格。根据专利法，一项发明创造必须具备较高的创造性方有可能被授予专利，即发明创造与现有技术相比，必须具有突出的实质性特点和显著的进步。这一要求对集成电路来讲显得过于严格，使得大多数集成电路产品得不到专利法的保护。集成电路技术的发展主要表现在光刻线条的宽度不断减小和集成规模的不断提高，而这些都是工艺水平不断提高的结果。一代新的集成电路产品，其布图设计可能并没有出现根本性的改进，也没有产生意想不到的结果，即难以达到专利法所要求的创造高度。而且，在布图设计中，经常使用一些现成的单元电路进行组合，而这些单元电路往往是最优化甚至是唯一性的设计，很难再做改进。因此，利用专利法最多只可能对布图设计中的特定部分给予保护，而很少有可能对整个布图设计给予保护。

2.申请专利的程序过于繁琐、且颇费时日。而现代集成电路的更新、发展可谓日新月异，其产品生命周期一般较短。如果将集成电路产品申请专利，则很有可能专利还未批准，该项产品就已被淘汰了。

(三)反不正当竞争法保护模式

含有布图设计的集成电路产品虽然存在一定的技术因素，但该产品一旦投入流通领域，其布图设计就会为公众所知悉，为相关领域的普通技术人员所理解，无法再作为技术秘密受反不正当竞争法的保护。同时，反不正当竞争法虽然对复制和简单“反向工程”等不正当竞争行为能起到一定的制止效果，在一定程度上间接保护布图设计人的利益，但是，面对集成电路行业广泛存在的“反向工程”行为，很难对该行为的“不正当性”提供一个确切的判断标准，其实际发挥作用的空间相当有限。

(四)专门法保护模式

综上所述，传统的知识产权法对布图设计均无法提供有效的保护，因此，制定专门立法保护布图设计就成为当今世界各国，乃至国际条约采用的通行做法。通过专门立法，可以针对布图设计的特点为其量身定制保护制度，从而有效地保护布图设计。