(一)布图设计权的内容

1.复制权，即布图设计权人能够对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制的权利。复制权包括权利人自己复制、禁止未经权利人许可的复制和许可他人复制等内容。

2.商业利用权，即布图设计权人为商业目的而利用布图设计或含有布图设计的集成电路的权利。商业利用是指布图设计权人将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。商业利用的方式包括进口、销售、出租或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品。布图设计权人的商业利用权包括自己独占利用、禁止他人未经权利人许可的利用和许可他人利用。

(二)布图设计权的保护期限

根据《集成电路布图设计保护条例》的规定，布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受保护。