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知名通信专家、财经网总编辑康钊在平台的直播首秀“康钊财经大讲堂”中围绕“芯片断供会遭遇灭顶之灾,中国芯片业能否自救”的话题，谈道“中国芯片就算解决了光刻机的难题，但还有很多上游产业被美国限制。”这是何意？

我国光刻机发展史

据悉，芯片主要分为三大环节：芯片设计、芯片制造、芯片封装，其中最为重要的要数“光刻机”，可以说光刻机就是在制造芯片时不可或缺的工具，没有光刻机就没有芯片。

但在过去，全球能够生产高端光刻机的，被荷兰的ASML所垄断，而我国的光刻机起步晚，且由于《瓦森纳协定》，美国能禁止荷兰的光刻机出口中国，这就为我国生产研发芯片带来了不小的困难。

但其实我国光刻机发展速度还是挺快的。最早显示是在1965年开始研发自己的集成电路，但真正实现发展是2002年上海装备公司（SMEE）成立之后，在光刻机被国外“卡脖子”这么久之后，看到了一丝曙光。

目前国内技术最领先的光刻设备厂商——上海微电子装备公司可以做到最精密的加工制程是90nm，和荷兰ASML的7nm的工艺相比，差距还是很高，但也别小瞧这90nm制程能力，这已经足够驱动基础的国防和工业。哪怕是出现禁止进口光刻机这种极端的情况时，中国仍然有芯片可用。

仍有别的产业被美国限制

不过就算解决了光刻机问题还有别的产业被美国限制。据了解，芯片产业除了最为重要的光刻机外，还包含若干的产业链，而每一道产业链对于芯片最终的成品而言都至关重要。

据了解，光刻机、芯片的应用材料都掌握在日本、美国人手中。比如，光刻机有一种核心材料较光刻胶，几乎被日本厂商垄断，即便中国芯片产业链有企业生产出光刻机，但如果没有光刻胶，也造不出来光刻机。

目前我国90到14nm高端芯片制造所需的ArF光刻胶完全依赖进口，并且，多国禁止ArF光刻胶技术对我国进行输入。这显然于我国芯片制造安全不利。