(一)我国对保护布图设计的法律要求

1．实体条件

我国《集成电路布图设计保护条例》第4条规定了保护布图设计的实体条件，即“受保护的布图设计应当具有独创性，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体应当符合前款规定的条件。”

可以看出，该规定将独创性作为保护布图设计的实体条件，但又分为两种情况：一、布图设计本身具有独创性；二、布图设计的组成部分虽然是常规设计．但经过组合却具有独创性；即通过对常规设计的拼合也产生了独创性。

2．权利主体

《集成电路布图设计保护条例》第3条对申请主体做了规定，依照第3条， “中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计，依照本条例享有布图设计专有权。”同时又规定， “外国人创作的布图设计首先在中国境内投人商业利用的，依照本条例享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计，其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的，依照本条例享有布图设计专有权。由此可以看出，有关集成电路布图设计国民待遇的规定基本符合《华盛顿条约》的规定的。

(二)布图设计的专有权的内容

我国《集成电路布图设计保护条例》第7条规定，布图设计权利人享有下列专有权：

(1)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制：

(2)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。

按照本条例第2条第4款、第5款的规定，复制，是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为；商业利用，是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。

(三)专有权的登记取得

该条例第8条规定： “布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，未经登记的布图设计不受本条例保护。”从这里可以看出，与著作权的自动取得不同， 《集成电路布图设计保护条例》对集成电路布图设计专有权的取得采取了登记制度，即只有经过登记的行政程序，才能取得布图设计专有权。